第六章光刻工艺（上篇）
上传用户：foolish_girl
上传日期：2009-06-12
文件类型：PDF
文件大小：1351.91K
资料积分：0分 积分不够怎么办？
第六章光刻工艺（上篇） 问 题？
在同一集成电路制造流程中,经历了同样的一系列加工工艺后：如何在
一片硅片上定义、区分和制造出不同类型、不同结构和尺寸的元件?
如何把这些数以亿计的元件集成在一起获得所要求的电路功能?
第六章 光刻工艺 如何在同一硅片上制造出具有不同功能的集成电路？
（上篇）
曾莹
清华大学微电子学研究所
zengying@mail.tsinghua.edu.cn
1980年的IC，
在同一集成电路制造流程中,经历了同样的一系列加工工艺后：如何在
一片硅片上定义、区分和制造出不同类型、不同结构和尺寸的元件?
如何把这些数以亿计的元件集成在一起获得所要求的电路功能?
第六章 光刻工艺 如何在同一硅片上制造出具有不同功能的集成电路？
（上篇）
曾莹
清华大学微电子学研究所
zengying@mail.tsinghua.edu.cn
1980年的IC，
关键词： 光刻工艺 图形转移 掩膜版 光刻机 接触式 接近式 投影式
加入微信
获取电子行业最新资讯
搜索微信公众号：EEPW
或用微信扫描左侧二维码