光刻2
上传用户：foolish_girl
上传日期：2009-06-14
文件类型：PDF
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光刻2 光刻胶
光刻胶的组成：由光敏化合物（PAC)、基体树脂和有机溶剂等
第六章 光刻工艺II 混合而成的胶状液体。都是碳基有机化合物。
当受到特定波长光线的作用后
，光刻胶会发生化学反应，使
光刻胶在某些特定溶液（显影
岳瑞峰 液）中的溶解特性发生改变。
正性胶和负性胶。
清华大学微电子所 曝光前对显影液不可溶
而曝光后变成可溶的。
光刻胶的组成：由光敏化合物（PAC)、基体树脂和有机溶剂等
第六章 光刻工艺II 混合而成的胶状液体。都是碳基有机化合物。
当受到特定波长光线的作用后
，光刻胶会发生化学反应，使
光刻胶在某些特定溶液（显影
岳瑞峰 液）中的溶解特性发生改变。
正性胶和负性胶。
清华大学微电子所 曝光前对显影液不可溶
而曝光后变成可溶的。
关键词： 光刻工艺 光刻胶 感光度 曝光 驻波效应
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