光刻1
上传用户：foolish_girl
上传日期：2009-06-14
文件类型：PDF
文件大小：730.59K
资料积分：0分 积分不够怎么办？
光刻1 前面工艺的遗留问题
氧化、扩散、离子注入、外延、金属化等一系列工艺
第六章 光刻工艺 无疑是制造集成电路不可或缺的重要组成部分，但是
光有这些还远远不够。这些工艺都是对整个硅园片进
行处理，不涉及任何图形。
岳瑞峰 在同一集成电路制造流程中，如何在一片硅片上定义、
区分和制造出不同类型、不同结构和尺寸的元件，怎
样把这些数以亿计的元件集成在一起获得我们所要求
清华大学微电子所 的电路功能，怎样在同一硅片上制造出具有不同功能
氧化、扩散、离子注入、外延、金属化等一系列工艺
第六章 光刻工艺 无疑是制造集成电路不可或缺的重要组成部分，但是
光有这些还远远不够。这些工艺都是对整个硅园片进
行处理，不涉及任何图形。
岳瑞峰 在同一集成电路制造流程中，如何在一片硅片上定义、
区分和制造出不同类型、不同结构和尺寸的元件，怎
样把这些数以亿计的元件集成在一起获得我们所要求
清华大学微电子所 的电路功能，怎样在同一硅片上制造出具有不同功能
关键词： 光刻工艺 图形转移 掩膜版 光刻机 波粒二象性
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