中国首台商用电子束光刻机揭幕
8月13日，我国首台自主研发的商用电子束光刻机“羲之”在浙江余杭正式揭幕。
根据杭州政府网站的报道，这台机器是浙江大学技术转化基地签署的第一个项目之一。它已经在客户现场进行了测试，精度与主流国际设备相当。这一里程碑标志着量子芯片研发现在有了自己的“中国刻刀。”
研发团队的一名成员解释说，西驰专注于量子芯片和下一代半导体研究的核心阶段。它使用高能电子束在硅基板上“手绘”电路，实现0.6纳米的精度和8纳米的线宽。其设计可以灵活修改，无需掩模，就像用纳米级的画笔直接在芯片上绘画一样——特别适合芯片开发早期阶段所需的迭代调试。
此前，此类设备受到国际出口管制的限制，导致中国顶尖科研机构如中国科学技术大学和中浙实验室无法采购。“羲之”的推出有望跨越这一障碍，目前已有多个科研机构正在进行讨论。
西齐电子束光刻机的成功应用测试，在国内高端半导体核心设备的发展上是一个重大突破。这款自主研发的“中国刻刀”将为加速国内先进芯片的研发、确保未来技术的战略优势奠定坚实基础。
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