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Mentor, a Siemens business 日前宣布，其 Tanner™ 模拟/混合信号 (AMS) 设计工具 — Tanner S-Edit 原理图输入工具和 Tanner L-Edit 版图编辑器 — 现已获得认证，可用于 TSMC 的可互操作的 PDK (iPDK)，适用于广泛的 TSMC 专有工艺技术，以实现高产量的模拟 IC 设计。

Mentor 的 Tanner AMS 设计工具经过优化，可创建全定制模拟或“Analog on Top”混合信号集成电路 (IC)，适用于 22nm 及以上工艺。许多领先的 IC 供应商使用 Mentor 的 Tanner 工具为广泛的市场（包括汽车、可穿戴设备和工业物联网 (IoT) 领域）设计高度复杂的 AMS 设备。

“在全球增长速度最快的市场当中，很多市场对专用 AMS 芯片的需求越来越大，这些芯片能够无缝衔接模拟和数字世界。Mentor 的 Tanner 工具经过专门设计，旨在帮助 IC 设计人员满足这一日益增长的需求，同时为创建高度创新的 AMS 设计提供一个理想的平台。”Mentor, a Siemens business 的集成电路设计系统部总经理 Greg Lebsack 表示，“适用于支持模拟 IC 设计的 TSMC 专有工艺的 Tanner AMS 工具已获得认证，这对我们的客户来说是个好消息，它有助于加快上市时间和降低风险。对我们的共同客户来说，Mentor Tanner AMS 解决方案与 TSMC 专有工艺结合用于模拟 IC 设计是真正的强强联合。”

TSMC 用于专有工艺技术的 iPDK 可帮助芯片制造商满足前沿 AMS IC 设计的特定要求。Mentor 的 AMS 工具现已获得认证，可用于许多晶圆代工厂的 iPDK，包括 22nm 超低功耗、28nm 高性能计算、40nm 混合信号技术以及适用于当今最先进的模拟 IC 的其他专有工艺技术。

“我们与 Mentor 之间的长期合作可确保能在特殊节点为我们双方的客户提供成功设计和制造芯片所需的 EDA 解决方案和服务以及相关支持，”TSMC 设计基础架构管理事业部高级总监 Suk Lee 表示，“这项合作成果结合了 TSMC 的专有工艺技术与 Mentor 的高级设计工具，帮助我们的客户在汽车、智能可穿戴设备和工业物联网等广泛的市场领域中获得创新成功。”

关键词： 设计工具 模拟