日本Rapidus计划2024年底引入EUV光刻机 EDA/PCB 时间:2023-12-07来源:SEMI 据日媒报道,日本芯片公司Rapidus表示,正在北海道建设芯片工厂,目标是2027年量产2nm制程芯片。该公司宣布,决定在2024年年底引入EUV光刻机,并将派遣员工赴荷兰阿斯麦学习EUV极紫外光刻技术。目标是今年派遣100名员工至IBM、阿斯麦学习先进芯片技术。 关键词: 日本 Rapidus 2nm 芯片制程 EUV光刻机 加入微信获取电子行业最新资讯搜索微信公众号:EEPW或用微信扫描左侧二维码