日本Rapidus计划2024年底引入EUV光刻机

EDA/PCB 时间:2023-12-07来源:SEMI

据日媒报道,日本芯片公司Rapidus表示,正在北海道建设芯片工厂,目标是2027年量产2nm制程芯片。

该公司宣布,决定在2024年年底引入EUV光刻机,并将派遣员工赴荷兰阿斯麦学习EUV极紫外光刻技术。目标是今年派遣100名员工至IBM、阿斯麦学习先进芯片技术。

关键词: 日本 Rapidus 2nm 芯片制程 EUV光刻机

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