Imec和ASML共同验证用于沉浸式光刻的新型照明系统

EDA/PCB 时间:2010-07-15来源:SEMI

  Imec和ASML已合作验证ASML的Tachyon Source Mask Optimization和可编程照明系统FlexRay,通过22nm SRAM单元的制造展示了其潜在应用价值。今年10月,imec使用的ASML XT:1900i扫描光刻设备将安装FlexRay产品,帮助imec进一步开拓沉浸式光刻技术的应用。

关键词: ASML 光刻机

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