IC虚拟制造－2
上传用户：foolish_girl
上传日期：2009-06-14
文件类型：PDF
文件大小：1420.68K
资料积分：0分 积分不够怎么办？
IC虚拟制造－2 0.5m双阱CMOS 主要内容
前言
工艺优化设计 一、SILVACO虚拟硅片制造软件功能介绍
二、工艺模拟策略
－－集成电路虚拟制
三、器件模拟
四、结构参数和器件参数的提取
造 五、模拟结果与实测结果的比较
六、工艺流程优化设计
清华大学微电子学研究所 七、结论
Virtual Fabricate 2
前言 2.IC 虚拟制造目标
1.双阱工艺技术： 利用SILVACO软件包－－工艺
在亚微米CMOS工艺中，由于强 模拟和器件模拟，进行0.5
前言
工艺优化设计 一、SILVACO虚拟硅片制造软件功能介绍
二、工艺模拟策略
－－集成电路虚拟制
三、器件模拟
四、结构参数和器件参数的提取
造 五、模拟结果与实测结果的比较
六、工艺流程优化设计
清华大学微电子学研究所 七、结论
Virtual Fabricate 2
前言 2.IC 虚拟制造目标
1.双阱工艺技术： 利用SILVACO软件包－－工艺
在亚微米CMOS工艺中，由于强 模拟和器件模拟，进行0.5
关键词： 集成电路 双阱 CMOS SILVACO 虚拟硅片 工艺模拟 参数提取 优化设计
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