ITO表面处理方法

模拟技术 时间:2012-03-13来源:网络
dth=131>

功函数(eV)

表面粗糙度(nm)

未处理

16.1

4.5

2.6

机械抛光

16.3

4.2

2.3

Ar等离子体

16.7/17.3/17.0

4.5

10.9/15.4/23.0

氧等离子体

16.4/15.0/16.4

4.35/4.75/4.65

1.4/1.4/2.1

王水

18.5/23.5/28.6

4.6/4.3/4.7

3.8/8.4/8.8

1 2 3

关键词: ITO 表面处理

加入微信
获取电子行业最新资讯
搜索微信公众号:EEPW

或用微信扫描左侧二维码

相关文章

查看电脑版