砷化镓金属-半导体场效应管

模拟技术 时间:2011-07-12来源:网络
砷化镓金属-半导体场效应管

砷化镓(GaAs)是由化学元素周期表中Ⅲ族元素镓和Ⅴ族元素砷二者组成的单晶化合物,因此,它又叫做Ⅲ-Ⅴ化合物,是一种新型半导体材料。它的特性与周期表中Ⅳ族元素硅类似,但重要的差别之一是,GaAs的电子迁移率比硅约大5~10倍。用GaAs制造有源器件时,具有比硅器件快得多的转换速度(例如在截止、饱和导通间变化)。高速砷化镓三极管正被用于微波电路、高频放大和高速数字逻辑电路中。

由砷化镓制造的场效应管叫做金属-半导体场效应管(MES-FET),它具有速度高等优点,应用广泛。

其中常数l叫做沟道长度调制参数,通常在(0.05 ~ 0.2)V–1范围,N沟道MESFET器件VP的典型值是(–0.5 ~ –2.5)V。常数K的单位为mA/V2。

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